掩模關(guān)鍵尺寸（CD）測量系統

高精度紫外光學(xué)量測解決方案，助力先進(jìn)掩模制造工藝

MT270UV 是專(zhuān)為半導體掩模制造中的關(guān)鍵尺寸（Critical Dimension）測量而設計的高性能光學(xué)量測系統，支持最大尺寸達 9 英寸的掩模測量，覆蓋至 65 nm 節點(diǎn)的先進(jìn)晶圓制造需求。

該系統采用高穩定性紫外光源，并對光學(xué)測量系統進(jìn)行深度優(yōu)化，使關(guān)鍵尺寸測量的重復性?xún)?yōu)于 2 nm，確保測量結果的高度一致性與可靠性。憑借超過(guò) 20 年的技術(shù)積累與持續優(yōu)化，MT270UV 已在全球主流掩模制造企業(yè)實(shí)現廣泛部署與驗證，成為行業(yè)內公認的標準化關(guān)鍵尺寸測量設備。其成熟、穩定、可靠的性能表現，為掩模制造過(guò)程中的質(zhì)量控制提供了堅實(shí)保障。