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CN
面向 55-40 nm 技術(shù)節點(diǎn)
可兼容 200/300 mm wafer
高靈敏度
可穩定抓取尺寸 60 nm 及以上缺陷
先進(jìn)的信號處理算法,有效提高信噪比
寬波段,可抓取各種類(lèi)型缺陷
高 Throughput
高 Data Rate
多種 Pixel Size 選擇
支持 High Speed 掃描模式
智能軟件支持
在線(xiàn)智能分類(lèi)系統 SDA
工藝窗口驗證
支持 Design Care Area
自主可控國產(chǎn)供應鏈
深紫外大通量成像系統
高速深紫外 TDI
高功率 LSP 光源
超精密運動(dòng)臺
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