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濺射靶材.jpg 濺射靶材（750x500）.jpg

濺射靶材平整度測量

行業(yè)挑戰

  • 01

    濺射靶材尺寸大，傳統接觸式輪廓儀或三坐標需逐點(diǎn)掃描，單件檢測耗時(shí)長(cháng)

  • 02

    靶材表面精度要求高，傳統接觸式測頭易劃傷工件表面，或產(chǎn)生微米級壓痕形變，影響靶材使用壽命和濺射性能

  • 03

    接觸式測量存在表面污染風(fēng)險，產(chǎn)品良率難以保障

濺射靶材.jpg

解決方案

磁控濺射屬于物理氣相沉積（PVD）工藝，常用于沉積導電層、絕緣層和防護層等關(guān)鍵薄膜。濺射過(guò)程中，氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，使靶材表面原子、分子脫離并沉積至基片形成薄膜。靶材除純度、導熱性能指標外，還要求有良好的平整度，保證薄膜的均勻性和致密性。

天準影像測量?jì)x搭載光譜共焦傳感器，專(zhuān)門(mén)用于靶材平面度檢測。依托光學(xué)非接觸式測量方案，兼具高精度、高檢測速度優(yōu)勢，同時(shí)不會(huì )劃傷、損傷靶材表面，適配大批量靶材精密質(zhì)檢需求。

方案優(yōu)勢

  • x1_iocn2.svg

    非接觸測量，對產(chǎn)品無(wú)污染、無(wú)損傷

  • x1_iocn3.svg

    選配不同規格光譜共焦傳感器，滿(mǎn)足精度要求

  • x1_iocn4.svg

    光譜共焦傳感器支持單點(diǎn)和掃描模式，滿(mǎn)足效率要求

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